中微公司(688012)：刻蝕+薄膜持續放量在手訂單高速增長

快訊 2025年08月31日 09:30 4 admin

　　事項：　　2025 年8 月28 日，公司發布2025 年半年度報告：　　1）2025H1：公司實現營業收入49.61 億元，同比+43.88%；毛利率39.86%，同比-1.46pct；歸母/扣非歸母凈利潤7.06/5.39 億元，同比+36.62/+11.49%；　　2）2025Q2：公司實現營業收入27.87 億元，同比/環比+51.26/+28.25%；毛利率38.54%，同比/環比+0.37/-3.00pct；歸母凈利潤3.93 億元，同比/環比+46.82%/+25.47%；扣非歸母凈利潤2.40 億元，同比/環比+9.16/-19.39%?！　≡u論：　　刻蝕設備持續放量驅動業績高增，薄膜設備貢獻新增量。受益于先進制程及存儲客戶擴產，公司在先進邏輯與存儲制造的多項關鍵刻蝕和薄膜工藝實現大規模量產，高端產品新增付運顯著提升。2025 年上半年公司營業收入49.61 億元，同比增長43.9%。其中，刻蝕設備收入37.81 億元，同比增長40.12%，占比約75%；新產品LPCVD 設備持續放量，實現收入1.99 億元，同比增長608.19%。規模效應帶動盈利能力改善，但高研發投入仍對利潤形成一定壓制，2025H1 歸母凈利潤7.06 億元，同比增長36.62%。隨著后續新品逐步落地，公司盈利能力有望進一步釋放。訂單方面，2025H1 末公司合同負債較24 年末增長5.79 億元至31.65 億元，為公司業績保持高增態勢提供堅實基礎。　　半導體設備國產化進程加速，刻蝕&薄膜設備深度受益于高端制程擴產。半導體設備國產化進程加速，存儲器件從2D 向3D 轉換帶動刻蝕&薄膜設備需求量大幅增長，以中微公司為代表的國產半導體設備廠商將持續受益?？涛g設備方面，公司的等離子體刻蝕設備已應用在65 至5nm 及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線；薄膜設備方面，公司近兩年新開發的LPCVD 和ALD 薄膜設備，目前已有多款新型設備產品進入市場并獲得重復性訂單，未來公司產品有望在高端存儲和邏輯擴產進程中發揮更重要的作用?！　「哐邪l投入夯實平臺化能力，新品突破打開遠期空間。2025H1 公司研發投入同比+53.70%至14.92 億元，占營收約30.07%，顯著高于科創板平均水平，高研發投入下平臺化能力持續強化。分業務看：1）刻蝕設備方面，公司單反應臺及超高深寬比刻蝕產品持續獲單，25H1 累計裝機約120/200 個反應臺；ICP刻蝕在12 英寸3D 芯片硅通孔工藝實現成功驗證，并進入歐洲MEMS 客戶產線認證，同時全球首臺12 寸金屬刻蝕機已付運國內重要客戶現場驗證；2）MOCVD 設備方面，首臺紅黃光LED 專用設備已付運至國內領先客戶開展生產驗證；3）薄膜設備方面，鎢系列產品已獲存儲客戶批量訂單，并在多個邏輯客戶驗證，金屬柵系列（ALD 氮化鈦/鈦鋁/氮化鉭）完成多個先進邏輯客戶設備驗證。整體上，公司在研項目已覆蓋六大類核心設備，核心制程環節不斷突破，平臺化布局持續深化，未來成長空間有望逐步打開?！　⊥顿Y建議：下游擴產疊加替代加速，公司作為國內半導體設備重要廠商有望顯著受益，我們維持公司2025-2027 年歸母凈利潤預測為22.11/30.57/40.31 億元。　　結合公司歷史估值及行業平均估值水平，給予公司2025 年13 倍PS，對應目標價為249.6 元，維持“強推”評級?！　★L險提示: 國際貿易形勢變化；下游擴產不及預期；新品拓展不及預期；上游零部件供應短缺；行業競爭加劇。【免責聲明】本文僅代表第三方觀點，不代表和訊網立場。投資者據此操作，風險請自擔。

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